刻蚀环/聚焦环
产品介绍
提高洁净的刻蚀环境，保证刻蚀精度和质量，用于晶圆刻蚀工艺
适用机型
第三代半导体刻蚀机
产品参数
基材：CVD SiC（纯度>6N）
特点：纯度高，耐腐蚀，高强度，化学性能稳定，寿命长
产品类别
干刻
关键词
这里是占位文字
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刻蚀环/聚焦环
提高洁净的刻蚀环境，保证刻蚀精度和质量，用于晶圆刻蚀工艺
第三代半导体刻蚀机
基材：CVD SiC（纯度>6N）
特点：纯度高，耐腐蚀，高强度，化学性能稳定，寿命长
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干刻
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